fuente de alimentación de rf

el sistema pecvd se compone de horno de tubo, cámara de vacío de cuarzo, sistema de vacío, suministro de gas sistema y sistema de suministro de energía rf.utilizado principalmente en: película de metal, película de cerámica, Película compuesta, grafeno y otros crecimientos. Es fácil aumentar la función de grabado de plasma de grabado y grabado. El sistema pecvd tiene ventajas de alta tasa de deposición, buena uniformidad, consistencia y estabilidad.

rango de salida de potencia	0-500w
máxima potencia reflejada	200w
frecuencia de trabajo	rf ： 13.56mhz ± 0.005%
estabilidad pw	+/- 0.1%
componente armónico	≤ -50dbc
ancho de rf	0-600 mm ajustable
modo coincidente	auto
modo de enfriamiento	aire frio
ruido	& lt; 50db
interfaz rf	50 Ω tipo n
potencia de entrada	208-240v 50 / 60hz

1) suministramos maquinas con soporte de tecnología de batería.

2) nosotros proveemos conjunto completo de equipo de batería de litio para investigación de laboratorio, investigación a escala piloto y producción lin mi.

1 paquete estándar exportado: protección anticolisión interna, embalaje de caja de madera de exportación externa.

2 envío por expreso, por aire, por mar de acuerdo con los requisitos de los clientes para encontrar la forma más adecuada.

3 responsables del daño durante el proceso de envío, cambiará la parte del daño por usted de forma gratuita.