Horno tubular de 1200 ° c con mecanismo de desplazamiento interno para hpcvd
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Horno tubular de 1200 ° c con mecanismo de desplazamiento interno para hpcvd
tmax-1200x-s-hpcvd es un tubo dividido compacto de 2 " horno con sistema interno de desplazamiento de muestras dentro del tubo de procesamiento. esta permite la posición & amp; control de temperatura de la etapa de muestra o crisol a través del controlador digital de pantalla táctil. Está diseñado para multifuncional procesamiento térmico rápido, como híbrido deposición fisicoquímica (hpcvd), evaporación térmica rápida (rte), y también horizontal crecimiento cristalino de bridgman (HDC) en diferentes atmósferas para la investigación de cristal de nueva generación.
especificaciones:
| división horno de tubo |
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| temperatura controlar |
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| sellado al vacío |
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| interno mecanismo de viaje &erio; |
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| max. calefacción y amperios; velocidad de enfriamiento |
el La velocidad máxima de calentamiento y enfriamiento se puede lograr moviendo la muestra al precalentado zona caliente y mover la muestra fuera de la zona caliente. la rampa típica / cool la tasa se enumera a continuación: |
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| dimensiones |
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| garantía |
dos años de garantía limitada con soporte de por vida (piezas consumibles como tubos y las juntas tóricas no están cubiertas por la garantía) |
| ordenador portátil, software y amplificador; control wifi (opcional) |
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| solicitud notas |
esta El horno multifuncional es adecuado para las siguientes aplicaciones:
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2) nosotros proveemos conjunto completo de equipo de batería de litio para investigación de laboratorio, investigación a escala piloto y producción lin mi.

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