Horno CSS de dos zonas con soporte giratorio para obleas de hasta 5x5" en máx. 800°C
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OTF-1200X-RTP-II-5-RPuerto de envío:
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Horno CSS de dos zonas con soporte giratorio para obleas de hasta 5x5" a 800°C máx. - OTF-1200X-RTP-II-5-R
El OTF-1200X-RTP-II-5-R es un horno avanzado de procesamiento térmico rápido con cámara de cuarzo de 11" de D.I. y portamuestras giratorio de 5"x5". Está diseñado para el recubrimiento con película CSS de muestras de obleas circulares o cuadradas de hasta 5" a una temperatura de trabajo de 800 °C máx. El horno se calienta mediante dos grupos de calentadores halógenos (superior e inferior) por separado con un máx. 10 º C/s velocidad de calentamiento. El portamuestras superior es giratorio para lograr un recubrimiento de alta uniformidad. Es una excelente herramienta para investigar películas delgadas de nueva generación para células solares, como CdTe, Sulfuro y P. Célula solar de erovskita.
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