Potencia de entrada

• Monofásico 220 VAC, 50/60 Hz
• 1000 W (incluyendo bomba de vacío y enfriador de agua)
• Si el voltaje es de 110 V, se puede pedir un transformador de 1500 W en TMAX.

Fuente de alimentación

• Se incluye un generador de RF de 13,5 MHz y 100 W con adaptación manual y se conecta a los cabezales de pulverización catódica
• Tiempo de trabajo continuo:
• 100W: ≤ 1 hora
• 80W: ≤ 1,5 horas
• 70W: ≤ 2 horas
• 60W: ≤ 4 horas
• 50W: ≤ 8 horas
• Rango de carga: 0 – 80 ajustable. Rango de sintonización: -200j - 200j ajustable
• El interruptor giratorio puede activar un cabezal de pulverización a la vez. Los cabezales de pulverización se pueden cambiar "en el plasma" (sin romper el vacío y el plasma durante un proceso multicapa)
• Con una fuente de alimentación de CC, el recubridor se puede modificar fácilmente en fuentes de pulverización de CC de 1" para la deposición de películas metálicas, lo que permite configuraciones de tres cabezales de pulverización de CC, uno de RF / dos de CC y dos de RF / uno de CC (Imagen inferior izquierda. Seleccione de las opciones del producto)
• El generador de RF de coincidencia automática opcional de 300 W está disponible a un costo adicional

Cabezal de pulverización catódica de magnetrón

• Se incluyen tres cabezales de pulverización catódica de magnetrón de 1" con camisas de refrigeración por agua que se insertan en la cámara de cuarzo mediante abrazaderas rápidas
• El reemplazo del cable RF se puede comprar en TMAX
• Un obturador operado manualmente está construido en la brida (ver foto #3)
• Se incluye un enfriador de agua de recirculación controlado digitalmente de 10 l/min para enfriar los cabezales de pulverización catódica
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objetivo de pulverización catódica

• Requisito de tamaño objetivo: 1" de diámetro x 1/8" de espesor máx.
• Rango de distancia de pulverización: 50 – 80 mm ajustable
• Rango de ángulo de pulverización: 0 – 25° ajustable
• Blanco de Cu de 1" de diámetro y Al 2 O 3 el objetivo se incluye para la prueba de demostración
• Varios objetivos de pulverización catódica de óxido de 1" están disponibles a pedido con un costo adicional
• Para la unión de objetivos, se incluyen placas traseras de cobre de 1 mm y 2 mm. El epoxi plateado (foto n.º 1) y las placas traseras de cobre adicionales (foto n.º 2) se pueden pedir en TMAX

Cámara de vacío

• Cámara de vacío: 256 mm OD x 238 mm ID x 276 mm Altura, hecha de cuarzo de alta pureza
• Brida de sellado: 274 mm de diámetro. hecho de aluminio con junta tórica de silicona de alta temperatura
• Se incluye una jaula protectora de acero inoxidable para proteger al 100 % la radiación de radiofrecuencia de la cámara
• Nivel máximo de vacío: 1.0E-5 Torr con bomba turbo opcional y horneado en cámara

Portamuestras

• El portamuestras es una platina giratoria y calentable hecha de calentador cerámico con cubierta de acero inoxidable
• Tamaño del portamuestras: 50 mm de diámetro. por. Oblea de 2" máx. (Vea la imagen a continuación)
• Velocidad de rotación: 1 - 10 rpm ajustable para un recubrimiento uniforme
• La temperatura del soporte se puede ajustar desde temperatura ambiente hasta 600 °C máx. (5 min máx. a 600 °C; 2 h máx. a 500 °C) con una precisión de +/- 1,0 °C a través de un controlador de temperatura digital

Bomba aspiradora

• El puerto de vacío KF40 está integrado para conectarse a una bomba de vacío.
• Nivel de vacío: 1.0E-2 Torr con bomba mecánica de dos etapas incluida
• 1.0E-5 Torr con bomba turbo opcional

Opcional

• El sensor de espesor de cuarzo de precisión es opcional. Se puede incorporar a la cámara para controlar el espesor del recubrimiento con una precisión de 0,1 Å (se requiere refrigeración por agua)
• Fácil conexión USB a PC para monitoreo remoto de espesor y velocidad de recubrimiento
• Se incluyen 5 sensores de cuarzo (consumibles)
• El control remoto por PC del controlador de temperatura es opcional
• Fácil conexión USB a PC para control remoto de temperatura
• El software de control de temperatura está incluido. El módulo es compatible con LabView
• Para la pulverización catódica con magnetrón de CC, se recomienda una bomba turbo (Imagen n.º 3)
• Sputtering reactivo con N 2 o O 2 está disponible con estación de control de mezcla de gas opcional.
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Tamaño

• 540 mm largo x 540 mm ancho x 1000 mm alto

Peso neto

• 60 kg

Cumplimiento

• Aprobación CE
• La certificación MET (UL 1450) está disponible a pedido con un costo adicional, comuníquese con nuestro representante de ventas para obtener una cotización.

Garantía

• Un año de garantía limitada con soporte de por vida

notas de aplicación

• Este compacto recubridor de pulverización catódica de magnetrón RF de 1" está diseñado para recubrir películas delgadas de óxido en sustratos monocristalinos de óxido, que generalmente no necesitan una configuración de alto vacío.
• Se debe instalar un regulador de presión de dos etapas (no incluido) en el cilindro de gas para limitar la presión de salida del gas por debajo de 0,02 MPa para un uso seguro. Utilice > Gas Ar de pureza 5N para pulverización catódica de plasma
• Para obtener la mejor fuerza de adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de aplicar el recubrimiento:
• Limpieza ultrasónica con los siguientes baños secuenciales: (1) acetona, (2) alcohol isopropílico, para eliminar el aceite y la grasa. Seque el sustrato con N2 y luego hornee en caliente al vacío para eliminar la humedad absorbida.
• La limpieza con plasma puede ser necesaria para la rugosidad de la superficie, la activación de los enlaces químicos de la superficie o la eliminación adicional de la contaminación.
• Se podría aplicar una fina capa amortiguadora (~5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, para mejorar la adhesión de metales y aleaciones.

• Para obtener el mejor rendimiento, los objetivos no conductores deben instalarse con una placa trasera de cobre. Consulte el video de instrucciones a continuación (n. ° 3) para la vinculación de objetivos
• TMAX suministra sustrato monocristalino de la A a la Z
• Los recubridores de pulverización catódica de plasma TMAX RF han recubierto con éxito ZnO en Al 2 O 3 sustrato a 500 °C (perfil XRD en Pic #5)
• Pruebe la flexibilidad de la película delgada/electrodo revestido con Probador de flexión de mandril EQ-MBT-12-LD .
• ¡ALTO VOLTAJE! Los cabezales de pulverización se conectan a alto voltaje. Por seguridad, el operador debe apagar el generador de RF antes de las operaciones de carga de muestra y cambio de objetivo.
• NO use agua del grifo en el enfriador de agua. Use refrigerante, agua DI, agua destilada o aditivos anticorrosivos con agua
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