Plasma Sputtering Coater

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 pulgadas Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine

  • Model Number:

    VTC-600-2HD-LD
  • Puerto de envío:

    Xiamen
  • MOQ:

    1
  • Pago:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    5 days

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Detalles del producto

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 pulgadas Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine



El VTC-600-2HD-LD es un sistema de pulverización catódica de magnetrón compacto con dos fuentes objetivo de 2", por ejemplo, una fuente de CC para recubrir una película metálica y la otra fuente de RF para recubrir material no metálico. Este sistema de recubrimiento está diseñado para recubrir ambos capas de película simples o múltiples para una amplia gama de materiales, como aleación, ferroeléctrico, semiconductor, cerámica, dieléctrico, óptico, PTFE, etc. (Revisado desde el 25/09/2015. El monitor de espesor de película no está incluido).

ESPECIFICACIONES


Estructura compacta


Potencia de entrada

  • Monofásico 220 VAC 50/60 Hz
  • 2000 W (incluyendo bomba de vacío y enfriador de agua)




Fuente de poder

  • Dos fuentes de energía de pulverización están integradas en una caja de control
    • Fuente de CC: potencia de 500 W para recubrir materiales metálicos (Imagen 1)
    • Fuente de RF: potencia de 300 W, frecuencia de 13,56 MHz para el revestimiento de materiales no conductores (Imagen 2)






Cabezal de pulverización catódica de magnetrón

  • Dos cabezales de pulverización catódica de magnetrón de 2" con camisas de refrigeración por agua y persianas incluidas
  • Un modelo de cabezal de pulverización también disponible en esta página de producto (en opciones de producto)
    • Uno está conectado a la fuente de CC para recubrir materiales metálicos
    • El otro está conectado a la fuente de RF para materiales no conductores.
    • Requisito de tamaño objetivo: 2" de diámetro
    • Rango de espesor: 0,1 - 5 mm para objetivos metálicos y no conductores (incluida la placa trasera)
    • Una Acero inoxidable Objetivo objetivo y un grado de investigación objetivo Al2O3 se incluyen para pruebas de demostración
    • Los objetivos de pulverización catódica opcionales de 2" (o la placa de respaldo) están disponibles a pedido con un costo adicional.
    • Receta de pulverización recomendada y consejos útiles
  • Recubridor personalizado: dos cabezales de CC sin RF; dos cabezales RF sin CC; 3 cabezales de radiofrecuencia están disponibles a pedido
  • Opcional: se puede pedir un cable RF de 148 cm por un costo adicional para reemplazarlo (haga clic en la primera imagen de la derecha para realizar el pedido)




Cámara de vacío

  • Cámara de vacío: 300 mm de diámetro. x 300 mm Alto, fabricado en acero inoxidable
  • Ventana de visualización: dos piezas de 100 mm de diámetro. vidrio. Uno fijo; uno desmontable para limpieza y reemplazo
  • La tapa con bisagras con poste de alimentación neumático permite un fácil cambio de objetivo




Etapa de muestra

  • El portamuestras es una platina giratoria y calentable hecha de calentador cerámico con cubierta de cobre
  • Tamaño del portamuestras: 140 mm de diámetro. por. Oblea de 4" máx.
  • Velocidad de rotación: 1 - 20 rpm ajustable para un recubrimiento uniforme
  • La temperatura del soporte se puede ajustar desde RT hasta 500 °C máx. (2 h máx.) con una precisión de +/- 1,0 °C a través de un controlador de temperatura digital

Control de flujo de gases

  • Se instalan dos controladores de flujo másico de precisión (MFC) para permitir la entrada de dos tipos de gases
    • Caudal: 0 – 200 ml/min ajustable en el panel de control de pantalla táctil
  • La válvula de entrada de aire está instalada para liberar el vacío

Estación de bomba de vacío

  • Se incluye una estación de bombeo móvil. El recubridor de pulverización catódica se puede colocar en la parte superior de la estación
  • La bomba turbo de alta velocidad a una velocidad de 80 l/s se combina con una bomba mecánica de dos etapas (220 l/min) para un nivel de vacío máximo y una velocidad de bombeo más rápida
  • Nivel de vacío estándar conectado con la cámara: < 4.0E-5 Torr. . (1.0E-6 Torr con horno en cámara)
  • Opcional con costo extra
  • Si elige una bomba turbo de alta velocidad de 150L/S, el vacío puede alcanzar 10-6 torr con cámara (6x10-7 torr con horneado)
  • Para el vacío ultraalto de hasta 10^-7 torr, se necesita una bomba getter (100 l/s H2 y O2) además de la bomba turbo. Consulte a nuestros ingenieros para una personalización detallada.

Enfriador de agua

  • Una temperatura digital controlada enfriador de agua recirculante está incluido.
    • Rango de refrigeración: 5~35 °C
    • Caudal: 16 L/min
    • Presión de la bomba: 14 psi




Opcional

  • cuarzo preciso Monitor de espesor de película es opcional, que puede estar en la cámara para monitorear el espesor del recubrimiento con una precisión de 0.10 Å
  • Precisión Película fina y amplificador; Sistemas de análisis de recubrimientos - EQ-TFMS-LD está disponible a un costo adicional
  • Varios objetivos metálicos y de óxido de 2” están disponibles a pedido con un costo adicional. Las placas de respaldo de epoxi plateado y cobre se pueden pedir en MTI




Dimensiones totales


Peso neto de Coater

  • 160 kg

Peso de envío & Dimensiones

  • Total 2 Paletas
  • #1: 520 libras, 52" x 40" x 50"
  • #2: 420 libras, 48" x 40" x 45"

Cumplimiento

  • Aprobación CE
  • La certificación MET (UL 1450) está disponible a pedido con un costo adicional, comuníquese con nuestro representante de ventas para obtener una cotización.

Garantía

  • Un año de garantía limitada con soporte de por vida

notas de aplicación

  • Se debe instalar un regulador de presión de dos etapas (no incluido) en el cilindro de gas para limitar la presión de salida de gas por debajo de 0,02 MPa para un uso seguro
  • Para eliminar el oxígeno de la cámara, le sugerimos que utilice 5 % de hidrógeno + 95 % de nitrógeno para limpiar la cámara 2 o 3 veces, lo que puede reducir el nivel de oxígeno a < 10ppm
  • Utilice > Gas argón de pureza 5N para pulverización catódica de plasma. Aunque el Ar de pureza 5N generalmente contiene 10 - 100 ppm de oxígeno y H2O, según el proveedor. MTI le sugiere que use dispositivo de purificación de gases para purificar el gas antes de llenarlo.
  • Para obtener el mejor rendimiento, los objetivos no conductores deben instalarse con una placa trasera de cobre. Consulte el video de instrucciones a continuación para la vinculación de objetivos
  • TMAX suministra sustrato monocristalino de la A a la Z
  • Los recubridores de pulverización catódica TMAX han recubierto con éxito ZnO en Al 2 O 3 sustrato a 500 °C
  • Pruebe la flexibilidad de la película delgada/electrodo revestido con Probador de flexión de mandril EQ-MBT-12-LD .
  • ¡ALTO VOLTAJE! Los cabezales de pulverización se conectan a alto voltaje. Por seguridad, el operador debe apagar el generador de RF/CC antes de las operaciones de carga de muestra y cambio de objetivo
  • NO use agua del grifo en el enfriador de agua. Use refrigerante, agua DI, agua destilada o aditivos anticorrosivos con agua

Magnetron Plasma Sputtering Coater

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