Voltaje de entrada

• 220 V CA 50/60 Hz
• La alimentación de 110 V está disponible mediante el uso de un Transformador de 1000 W (fusible de 15 A ). El transformador se vende por separado.

Potencia de salida

• 1600 VCC
• 250W
• 150 mA máx.
• Protección contra sobrecorriente incorporada (> 150 mA)

Cámara de muestras

• Tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm OD. X 150 mm DI x 250 mm Altura

Cabeza de pulverización &
Etapa del espécimen

• Se incluye cabezal de pulverización catódica de magnetrón flexible de 2“ con camisa de refrigeración por agua (Fig. 1)
• Una etapa de muestra de acero inoxidable de 50 mm de diámetro es giratoria de 0 a 5 RPM
• Un obturador operado manualmente para protección de objetivos. (Figura 2)
• El soporte del cabezal de pulverización está disponible para sostener el cabezal de pulverización mientras no está en funcionamiento.
• La distancia entre el cabezal de pulverización catódica y la platina de la muestra se puede ajustar entre 60 y 100 mm.
• Área máxima de recubrimiento: 4" de diámetro máx.
• Una Enfriador de agua de recirculación de aire frío 10 L / min de flujo se incluye para enfriar el cabezal de pulverización catódica. (Fig.6)
• 

Panel de control

• Panel de control con pantalla táctil a color de 6" con integración de PLC para una fácil operación
• Un panel para monitorear y controlar todos los parámetros: vacío, corriente.

Presión máxima de vacío

• Puerto de vacío KF25 incorporado
• El sistema requiere un tanque de gas Ar con regulador de presión. (no incluido)
• < 1.0E-2 Torr por Bomba de vacío de paletas (no incluida) para objetivos de Au, Ag, Pt, Cu, Mo (no sensibles al aire)
• < 1.0E-5 Torr por Bomba turbomolecular (no incluida) para blancos de Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibles al aire)
• El vacío más bajo puede alcanzar < 4.0E-6 Torr bombeando durante la noche y horneando

atmósfera gaseosa

• Una válvula de aguja instalada para permitir que la entrada de gas Ar logre un mejor recubrimiento de plasma
• El sistema requiere un tanque de gas Ar con el regulador de presión (no incluido)

Objetivo

· Se incluye un objetivo de cobre de 2" para la prueba. Tamaño del objetivo: 2" de diámetro x 2,5 mm.

• También puede recubrir Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , etc. casi todo tipo de material metálico.
• Advertencia : Objetivo de aluminio, cromo o níquel puede recubrirse con esta máquina, pero consulte el método de recubrimiento recomendado antes de usarlo.
• Utilice pulverización catódica de magnetrón de plasma RF para recubrir alúmina

Monitor de espesor de película opcional

• El monitor de espesor de película es opcional a un costo adicional
• La platina de muestra calentable hasta 500 °C está disponible a pedido con un costo adicional
• El caudalímetro para un control preciso de la entrada de gas está disponible bajo pedido con un costo adicional.

Dimensión global

• L 440 mm × W 330 mm × H 290 mm

Peso neto

• 20 kg

Peso de envío & Dimensión

• 160 libras
• 45" x 45" x 40"

Cumplimiento

• Aprobación CE
• La certificación NRTL está disponible a pedido con un costo adicional, comuníquese con nuestro representante de ventas para obtener una cotización.

Garantía

• Un año limitado con soporte de por vida

notas de aplicación

• Advertencia: el cabezal de pulverización se conecta a un voltaje ALTO. El operador debe usar guantes durante la operación.
• Asegúrese de que el objetivo, el cabezal de pulverización catódica, el sustrato y la etapa de calentamiento estén limpios antes de recubrir, debe usar papel de lija y alcohol para limpiar y refrescar el objetivo de aluminio o níquel cada vez que lo use.