Potencia de entrada

• 220 V CA, 50/60 Hz, monofásico
• 800 W (incluyendo bomba)
• Si el voltaje es de 110 VAC, se requiere un transformador de 1000 W, haga clic en la imagen de la izquierda para ordenar

Fuente de poder

• Una Generador RF de 13,5 MHz, 300 W con adaptación automática La función está integrada en el gabinete y conectada a un cabezal de pulverización catódica de 2".
• Opcional: la fuente de alimentación de pulverización catódica de CC está disponible para recubrir material metálico

Cabezal de pulverización catódica de magnetrón

• Se incluye un cabezal de pulverización catódica de magnetrón de 2" con camisas de refrigeración por agua y se inserta en la cámara de cuarzo a través de una abrazadera rápida
• Un obturador está construido en la brida (operado manualmente)
• Se requiere un enfriador de agua de recirculación controlado digitalmente de 16 l/min para enfriar los cabezales de pulverización catódica de magnetrón
• El cabezal de pulverización catódica de 1" es reemplazable y opcional a un costo adicional
• El cable RF de 148 cm es reemplazable con costo adicional
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objetivo de pulverización catódica

• Requisito de tamaño objetivo: 2" de diámetro x 1/4" de espesor máx.
• Se incluye un objetivo de SiO2 para la prueba de demostración.
• Blanco de cerámica Al2O3 Recomendar método de recubrimiento
• Los objetivos de pulverización catódica opcionales de 2" (con placa de respaldo) están disponibles a pedido con un costo adicional.

Cámara de vacío

• Cámara de vacío: 160 mm OD x 150 mm ID x 250 mm Altura. hecho de cuarzo de alta pureza
• Brida de sellado: 165 mm de diámetro. hecho de aluminio con junta tórica de silicona de alta temperatura
• Se incluye una cubierta de malla de acero inoxidable para proteger al 100 % la radiación RF de la cámara
• Nivel de vacío: 1.0E-2 Torr con bomba mecánica de dos etapas incluida y 1.0E-5 Torr con turbobomba opcional

Portamuestras

• El portamuestras es giratorio y calentable hecho de un calentador de cerámica con cubierta de acero inoxidable
• El tamaño del portamuestras: 50 mm de diámetro. para oblea de 2" máx.
• La velocidad de rotación es ajustable: 1 - 10 rpm para un recubrimiento uniforme
• La temperatura del soporte se puede ajustar desde temperatura ambiente hasta 500 °C como máximo con una precisión de +/- 1,0 °C mediante un controlador de temperatura digital.
• El portamuestras de calentamiento de 800- 1000ºC está disponible a pedido a pedido.
• El soporte de muestra de vibración opcional está disponible para el recubrimiento de PVD de potencia. (Imagen 3 a continuación)
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Estación de bomba de vacío

• El puerto de vacío KF25 está integrado para conectarse a una bomba de vacío.
• Se requiere una bomba de vacío con adaptador KF25, pero no se incluye. Haga clic en la imagen para pedir por separado.
• Nivel de vacío: 1.0E-2 Torr con bomba mecánica de dos etapas y 1.0E-5 Torr con turbobomba

Opcional

• El sensor de espesor de cuarzo de precisión es opcional y se puede integrar en la cámara para controlar el espesor del revestimiento con una precisión de 0,10 Å. Se requiere la computadora portátil para mostrar corve de espesor
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Dimensiones totales

Peso neto

• 70 kg

Garantía y amp; Cumplimiento

• Garantía limitada de un año con soporte de por vida
• Certificado CE
• La certificación NRTL o CSA está disponible a pedido con un costo adicional

notas de aplicación

• Este compacto recubridor de pulverización catódica de magnetrón de RF de 2" está diseñado para recubrir películas delgadas de óxido en sustratos monocristalinos de óxido, que generalmente no necesitan configuración de alto vacío.
• Utilice > Gas Ar de pureza 5N para pulverización catódica de plasma
• Para obtener la mejor fuerza de adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de aplicar el recubrimiento:
• Limpieza ultrasónica con los siguientes baños secuenciales: (1) acetona, (2) alcohol isopropílico, para eliminar el aceite y la grasa. Seque el sustrato con N2 y luego hornee en caliente al vacío para eliminar la humedad absorbida.
• La limpieza con plasma puede ser necesaria para la rugosidad de la superficie, la activación de los enlaces químicos de la superficie o la eliminación adicional de la contaminación.
• Se podría aplicar una fina capa amortiguadora (~5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, para mejorar la adhesión de metales y aleaciones.
• Para obtener el mejor rendimiento, los objetivos no conductores deben instalarse con una placa trasera de cobre. Consulte el video de instrucciones a continuación (n. ° 3) para la vinculación de objetivos
• TMAX utiliza los Coaters para recubrir con éxito ZnO en Al 2 O 3 sustrato a 500 °C (perfil XRD en Pic #5)
• NO use agua del grifo en el enfriador de agua. Utilice agua desionizada, agua destilada o aditivos anticorrosivos como refrigerante.
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