Características

• 5 pistolas de pulverización catódica de magnetrón para 5 materiales objetivo diferentes
• Dependiendo de las fuentes de alimentación utilizadas (RF o DC), se pueden depositar materiales tanto metálicos como no metálicos.
• Capaz de pulverizar 5 materiales objetivo para producir varias composiciones a través de diferentes tiempos/velocidades de pulverización
• Con 5 fuentes de alimentación opcionales, se pueden pulverizar 5 materiales objetivo al mismo tiempo para la pulverización combinatoria
• Se pueden depositar 16 muestras en un lote con una máscara y un portamuestras giratorio

Potencia de entrada

• Monofásico 220 VAC, 50/60 Hz
• 1000 W (incluyendo bomba de vacío y enfriador de agua)

Fuente de alimentación

• Se incluye un generador de RF de coincidencia automática de 13,5 MHz y 300 W conectado a los cabezales de pulverización catódica
• El interruptor giratorio puede activar un cabezal de pulverización a la vez. Los cabezales de pulverización se pueden cambiar "en el plasma" sin romper el vacío durante un proceso multicapa.
• Múltiples fuentes de alimentación de RF son opcionales, lo que permite al usuario pulverizar varios objetivos al mismo tiempo para la pulverización combinatoria
• La computadora portátil con software de control está disponible a un costo adicional para controlar el tiempo y la potencia de pulverización de cada pistola de RF

Opcional

• Puede elegir la fuente de alimentación de CC para la pulverización de objetivos metálicos
• Con cinco fuentes de alimentación de CC o RF, se pueden pulverizar cinco materiales objetivo al mismo tiempo para la pulverización combinatoria

Cabezal de pulverización catódica de magnetrón

• Se incluyen cinco cabezales de pulverización catódica de magnetrón de 1" con camisas de refrigeración por agua que se insertan en la cámara de cuarzo mediante abrazaderas rápidas
• El reemplazo del cable RF se puede comprar en TMAX
• Un obturador operado manualmente está construido en la brida (ver foto #3)
• Se incluye un enfriador de agua de recirculación controlado digitalmente de 10 l/min para enfriar los cabezales de pulverización catódica
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objetivo de pulverización catódica

• Requisito de tamaño objetivo: 1" de diámetro x 1/8" de espesor máx.
• Rango de distancia de pulverización: 50 – 80 mm ajustable
• Rango de ángulo de pulverización: 0 – 25° ajustable
• Blanco de Cu de 1" de diámetro y Al 2 O 3 el objetivo se incluye para la prueba de demostración
• Varios objetivos de pulverización catódica de óxido de 1" están disponibles a pedido con un costo adicional
• Para la unión de objetivos, se incluyen placas de respaldo de cobre de 1 mm y 2 mm. El epoxi plateado (foto n.º 1) y las placas traseras de cobre adicionales (foto n.º 2) se pueden pedir en TMAX

Cámara de vacío

• La cámara de vacío está hecha de acero inoxidable 304 con nervadura de refuerzo
• Tamaño interior de la cámara de vacío: 470 mm L × 445 mm D × 522 mm H (~105 litros, 18,5"x17,5"x 20,5")
• Redondo de 380 mm de diámetro. puerta con bisagras con ventana de vidrio de 150 mm de diámetro
• Rango de temperatura: -15 a 150 °C
• Nivel de vacío: 4.0E-5 torr con bomba turbo

Portamuestras

• Portamuestras giratorio de 150 mm de diámetro para recubrir 16 muestras, un lote con diferentes composiciones
• El portamuestras y la rotación de la máscara se pueden controlar manualmente con un botón o automáticamente con un software de control (opcional)
• La temperatura del portamuestras es ajustable desde RT hasta 600 °C máx.

Bomba aspiradora

• El puerto de vacío KF40 está integrado para conectarse a una bomba de vacío.
• Se incluye una bomba turbo compacta.
• 4.0E-5 Torr con bomba turbo opcional

Opcional

• El sensor de espesor de cuarzo de precisión es opcional. Se puede incorporar a la cámara para controlar el espesor del recubrimiento con una precisión de 0,1 Å (se requiere refrigeración por agua)
• Fácil conexión USB a PC para monitoreo remoto de espesor y velocidad de recubrimiento
• Se incluyen 5 sensores de cuarzo (consumibles)

Peso neto

• 60 kg

Cumplimiento

• Aprobación CE
• La certificación MET (UL 1450) está disponible a pedido con un costo adicional, comuníquese con nuestro representante de ventas para obtener una cotización.

Garantía

• Un año de garantía limitada con soporte de por vida

notas de aplicación

• Este compacto recubridor de pulverización catódica de magnetrón RF de 1" está diseñado para recubrir películas delgadas de óxido en sustratos monocristalinos de óxido, que generalmente no necesitan una configuración de alto vacío.
• Se debe instalar un regulador de presión de dos etapas (no incluido) en el cilindro de gas para limitar la presión de salida del gas por debajo de 0,02 MPa para un uso seguro. Utilice > Gas Ar de pureza 5N para pulverización catódica de plasma
• Para obtener la mejor fuerza de adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de aplicar el recubrimiento:
• Limpieza ultrasónica con los siguientes baños secuenciales: (1) acetona, (2) alcohol isopropílico, para eliminar el aceite y la grasa. Seque el sustrato con N2 y luego hornee en caliente al vacío para eliminar la humedad absorbida.
• La limpieza con plasma puede ser necesaria para la rugosidad de la superficie, la activación de los enlaces químicos de la superficie o la eliminación adicional de la contaminación.
• Se podría aplicar una fina capa amortiguadora (~5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, para mejorar la adhesión de metales y aleaciones.

• Para obtener el mejor rendimiento, los objetivos no conductores deben instalarse con una placa trasera de cobre. Consulte el video de instrucciones a continuación (n. ° 3) para la vinculación de objetivos
• TMAX suministra sustrato monocristalino de la A a la Z
• Los recubridores de pulverización catódica de plasma TMAX RF han recubierto con éxito ZnO en Al 2 O 3 sustrato a 500 °C
• Pruebe la flexibilidad de la película delgada/electrodo revestido con Probador de flexión de mandril EQ-MBT-12-LD .
• ¡ALTO VOLTAJE! Los cabezales de pulverización se conectan a alto voltaje. Por seguridad, el operador debe apagar el generador de RF antes de las operaciones de carga de muestra y cambio de objetivo.
• NO use agua del grifo en el enfriador de agua. Use refrigerante, agua DI, agua destilada o aditivos anticorrosivos con agua
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