Rasgo

• Especialmente diseñado para recubrir una película de oro conductora para muestras SEM
• Recubridor de pulverización catódica de plasma compacto diseñado para recubrimientos metálicos, como oro, platino y plata
• Una Blanco de oro (4N) de 2" está incluido

Voltaje de entrada

• 220 V CA 50/60 Hz, 200 W
• < 1000 W (incluida la potencia de la bomba de vacío)
• La energía de 110 VCA está disponible mediante el uso de un Transformador de 1000 W (fusible de 15 A) . El transformador se vende por separado.

Tensión de salida

• 500 VCC

corriente de chisporroteo

• 0 - 50 mA (máx.) corriente de pulverización ajustable
• Medidor de corriente digital (mA)
• Protección contra la sobretensión

tiempo de pulverización

• 1 -120 segundos ajustable

Cámara de muestras

• Tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm OD. x 150 mm DI x 150 mm Altura

Etapa del espécimen

• 2" de diámetro
• ajustable en altura, 30 - 80 mm desde la muestra hasta el objetivo

Cabeza de pulverización

• Cabezal de pulverización catódica de magnetrón de 2"
• Un obturador operado manualmente para protección de objetivos.

Presión de vacío

• Medidor de presión de vacío digital (Pa)
• Conector de bomba de vacío KF25
• Presión de vacío final 1 Pa por la bomba mecánica. La bomba no está incluida.

Bomba de vacío (opcional)

• Se recomienda la bomba rotativa de paletas de doble etapa EQ-FYP.
• Opcional: puede utilizar un bomba turbo para lograr un vacío de 1.0E-5 Torr con una bomba turbo (haga clic en la imagen inferior derecha)

gas de entrada

• Se instala un racor tipo Swagelok de 1/4 para conectar el cilindro de gas inerte
• Una válvula dosificadora está en el panel frontal para ajustar el gas de entrada

Objetivo

• Uno de 50 mm de diámetro. Incluye diana de oro de 0,12 mm x 0,12 mm
  
  
• Hoja de oro de pureza 4N: 50 mm (2 pulgadas) de diámetro. x 0,12 mm (incluido y preinstalado en la estucadora)
  
• Los objetivos opcionales están disponibles (Haga clic a continuación para ordenar)
  • Objetivo de Australia (50 mm de diámetro x 0,12 mm, pureza 4N)
  • punto objetivo (50 mm de diámetro x 0,12 mm, pureza 4N)
  • objetivo de agricultura (50 mm de diámetro x 0,5 mm, pureza 4N)

Este modelo es adecuado para recubrir oro, plata y platino. No es adecuado para recubrir materiales metálicos livianos como Al, Mg, Zn o carbono debido a la baja energía. Considere nuestro recubridor de pulverización catódica de magnetrón CC/RF de alta potencia o nuestro recubridor de evaporación térmica.

Dimensión y peso del producto

• 460 mm (largo) × 330 mm (ancho) × 520 mm (alto)
• 20kg

Peso de envío & Dimensión

• 80 libras
• 45" x 45" x 40"

Cumplimiento

• Certificado CE
• Listo para pasar la certificación UL/CSA a un costo adicional.

Garantía

• Un año limitado con soporte de por vida

notas de aplicación

• Para obtener la mejor fuerza de adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de aplicar el recubrimiento:
• Limpieza ultrasónica (Haga clic en la imagen de abajo para ordenar) con los siguientes baños secuenciales - (1) acetona, (2) alcohol isopropílico - para eliminar el aceite y la grasa. Seque el sustrato con N2 y luego hornee en caliente al vacío para eliminar la humedad absorbida.
• La limpieza con plasma (haga clic en la imagen a continuación para ordenar) puede ser necesaria para la rugosidad de la superficie, la activación de los enlaces químicos de la superficie o la eliminación de contaminación adicional
• Se podría aplicar una fina capa amortiguadora (~5 nm), como Cr, Ti, Mo, Ta, para mejorar la adhesión de metales y aleaciones.

• Se debe instalar un regulador de presión de dos etapas (no incluido) en el cilindro de gas para limitar la presión de salida del gas por debajo de 0,02 MPa para un uso seguro. Utilice > Gas Ar de pureza 5N para pulverización catódica de plasma
• El recubridor de pulverización catódica se puede colocar en una guantera de gas Ar y N2 para recubrir
• Recubra múltiples para aumentar el grosor del recubrimiento, deje que la máquina se enfríe durante varios minutos entre cada uso, ya que no tiene refrigeración por agua.
• ¡ALTO VOLTAJE! Los cabezales de pulverización se conectan a alto voltaje. Por seguridad, el operador debe apagar el equipo antes de las operaciones de carga de muestras y cambio de objetivos.
• Este modelo no es adecuado para recubrir materiales metálicos ligeros como Al, Mg, Zn o carbono debido a la baja energía. Considere nuestro recubridor de pulverización catódica de magnetrón o el recubridor de evaporación térmica. (Haga clic en las imágenes a continuación para obtener más detalles)