Voltaje de entrada

• 220 V CA 50/60 Hz
• La alimentación de 110 V está disponible mediante el uso de un Transformador de 1000 W (fusible de 15 A ). El transformador se vende por separado.

Potencia de salida

• 1600 VCC
• 250W
• 150 mA máx.
• Protección contra sobrecorriente incorporada (> 150 mA)

Cabeza de pulverización

• Cabezal de pulverización catódica de magnetrón flexible de 2" con camisa de refrigeración por agua incluida
• Un obturador operado manualmente para protección de objetivos.
• El soporte del cabezal de pulverización está disponible para sostener el cabezal de pulverización mientras no está en funcionamiento
• La distancia entre el cabezal de pulverización y la platina de la muestra es ajustable de 60 a 100 mm
• Una Enfriador de agua de recirculación de agua fría 16 L/min de flujo se incluye para enfriar el cabezal de pulverización catódica

Etapa de vibración

• La etapa de vibración está integrada en la parte inferior de la cámara de vacío.
• La velocidad de vibración es ajustable de 400 - 2000 RPM (6 - 33 Hz)
• Se coloca un contenedor de polvo de 2" en la plataforma de vibración. Girará durante la vibración.
• Cantidad de polvo sugerida: < 500 mg máx.
• Tamaño de partícula sugerido: 1 ~ 1000 micras

Cámara de vacío

• Tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm OD. X 150 mm DI x 250 mm Altura

Panel de control

• Panel de control con pantalla táctil a color de 6" con integración de PLC para una fácil operación
• Un panel para monitorear y controlar todos los parámetros: vacío, corriente

Presión máxima de vacío

• Puerto de vacío KF25 incorporado
• El sistema requiere un tanque de gas Ar con regulador de presión (no incluido)
• < 1.0E-2 Torr por Bomba de vacío de paletas (no incluida) para objetivos de Au, Ag, Pt, Cu, Mo (no sensibles al aire)
• < 1.0E-5 Torr por Bomba turbomolecular (no incluida) para blancos de Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibles al aire)
• El vacío más bajo puede alcanzar < 4.0E-6 Torr bombeando durante la noche y horneando

atmósfera gaseosa

• Una válvula de aguja instalada para permitir que la entrada de gas Ar logre un mejor recubrimiento de plasma
• El sistema requiere un tanque de gas Ar con el regulador de presión (no incluido)

Objetivo

• Se incluye un objetivo de cobre de 2" para la prueba, tamaño del objetivo: 2" de diámetro. x 2,5 mm
• También puede recubrir Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , etc. casi todo tipo de material metálico
• Advertencia: Aluminio, Cromo o Níquel puede recubrirse con esta máquina, pero consulte el método de recubrimiento recomendado en el siguiente enlace de destino
• Utilice un recubridor de pulverización catódica de magnetrón de plasma RF para recubrir materiales no conductores y carbono

Dimensión global

Peso neto

• 20 kg

Peso de envío & Dimensión

• 160 libras
• 45" x 45" x 40"

Cumplimiento

• Aprobación CE
• La certificación NRTL (UL 6100) está disponible a pedido por un costo adicional, comuníquese con nuestro representante de ventas para obtener una cotización

Garantía

• Un año limitado con soporte de por vida

notas de aplicación

• Advertencia: el cabezal de pulverización se conecta a un voltaje ALTO. El operador debe usar guantes durante la operación.
• Asegúrese de que el objetivo, el cabezal de pulverización catódica, el sustrato y la etapa de calentamiento estén limpios antes de recubrir, debe usar papel de lija y alcohol para limpiar y refrescar el objetivo de aluminio o níquel cada vez que lo use.
• Nota: el polvo debe secarse y dispersarse bien antes de recubrir
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