DC or RF Magnetron Sputter Coater

Recubrimiento de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF

  • Model Number:

    TMAX-650MH

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    Xiamen

  • MOQ:

    1

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    5 days

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Detalles del producto

Recubrimiento de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF

Introducción

Alto Recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón al vacío es ideal y está diseñado para la ciencia de los materiales y la preparación de muestras. Es ampliamente utilizado para la mayoría de las universidades e institutos de investigación científica de ciencia e ingeniería de materiales para recubrir metales, cerámicas, semiconductores, aisladores u otros tipos de preparación de materiales de membrana.

El recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío proporciona el entorno de pulverización catódica más estable y logra las condiciones experimentales básicas de la pulverización catódica de magnetrón en un período de tiempo muy corto. Proporciona dos tipos de opciones de potencia de pulverización de CC/RF que permiten la pulverización de sustancias conductoras o no conductoras en la muestra y mejora el rendimiento de la deposición física de vapor (PVD). También es excelente para el tratamiento y recubrimiento de superficies. Es fácil de operar y fácil de usar también.

La bomba de vacío y el enfriador están incluidos.



Parámetro

Aspiradora pag árbitro s et

( O es necesario) r notario v acuum pag ump+( o es gratis) t urbo metro oleculano pag juego de ump

Giratorio pag umpear s orinar

50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /h (5,2 L/s)

Molecular pag umpear s orinar

300L/ s

Aspiradora yo imitar

5* 10 -5 Pensilvania

Laboral pag presión

0,5-5 Pa

Pasar la aspiradora t i a mí

> 10 minutos (10 -3 Pensilvania)

Aspiradora metro facilidad

Rango de medición desde la atmósfera hasta 1*10 -6 Pensilvania

Gas C controlar

Gas F bajo C controlador

Cámara s tamaño

φ260*200mm (altura) metro etal

magnetrón t objetivo s fuente

Tamaño objetivo φ 50*3mm(Cu)/ t fuente de destino: w pico metro agnético s sustancia / metro materiales

Operación metro étodo

Manual de instrucciones yo

Peso/ s tamaño

100 kg/610 mm de largo x 420 mm de ancho x 490 mm de alto

Poder s suministro

CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz

Poder C consumo

<3000W

Enfriamiento metro étodo

Aire C inundando( pag ump)+ w agua C inundando( s jugando t objetivo)

Garantía

Garantía limitada de un año con soporte de producto de por vida

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