Laboratorio alta temperatura PECVD rotatorio horno de tubo (60 mm OD) con solo calefacción zona a 1200C Max.

PECVD rotatorio horno de tubo (60 mm OD) con calefacción individual zona a 1200 ° C Max. TMAX-DSP-1200PECVD-XZ s es tres zona 1200ºC PE-CVD tubo horno consiste 500W fuente de plasma de RF, horno de tubo con un medidor de flujo másico de canal integrado precisión con mezcla de tanque, de gas y un horno de alta calidad bomba de vacío oilless. tal PE-CVD es una nueva herramienta para crecer nanocable o grafeno o SiC capa.

Laboratorio C 1200 Max. Dos zona alta temperatura PECVD horno de tubo (diámetro del tubo opcional) con Auto - desplazamiento

1200ºC Max. Dos zona PECVD horno de tubo (diámetro del tubo opcional) con Auto-correderas TMAX-DSP-1200PECVD es un desplazable PE-CVD tubo horno sistema de zona dual consiste en fuente de plasma de RF, con el tamaño del tubo y un integral carril desplazable, precisión medidor de flujo másico de gas mezcla de tanque y una bomba de vacío de aceite de alta calidad. un horno de PE-CVD es una nueva herramienta para crecer nanocable o grafeno con los siguientes beneficios: 1. procesamiento de temperatura inferior en comparación con el convencional CVD. 2. calefacción y refrigeración alta tarifa usando el horno de corredera. 3. 1200ºC máximo. temperatura de trabajo. 4. ofrece una amplia gama de la deposición de materiales, tales como carbón y ZnO nanocable (o tubo) y grafema de una sola capa.

horno de tubo dividido de 1200 ° C de zona única

horno de tubo dividido de 1200 ° C de zona única