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productos
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Objetivo cerámico de óxido de zinc dopado con galio (GZO) (3,4 % dopante), 99,99 %, 6,9'' x 4,3'' x 0,2''
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Objetivo de iridio (Ir) de alta pureza
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Blanco de oro de alta pureza (Au)
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Blanco de pulverización catódica de cobre (Cu) de alta pureza
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Objetivo de plata (Ag) de alta pureza
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Objetivo de placa de respaldo de cobre
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Objetivo de óxido de zinc (ZnO) de alta pureza
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SrTiO3 de alta pureza Objetivo 1" de diámetro x 0,25" de espesor de cerámica
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Objetivo de seleniuro de plomo (PbSe) de alta pureza, 2,003" de diámetro x 0,129''
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Objetivo de aluminio (Al) de alta pureza, 99,99 %
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Objetivo de óxido de aluminio (AL2O3) de alta pureza al 99,99 %, 2" de diámetro x 2 mm
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Punto objetivo, 99,99% 2"x3,0 mm
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Objetivo SrTiO3, 99,99 % 2" de diámetro x 0,25" de espesor cerámico-TG-STO-50D0635-US
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SrRuO3 objetivo 99,9 % 2" de diámetro x 0,25" de espesor-TG-SrRuO3-50D06-US5
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Objetivo Cu(9)In(11), pureza: 99,99 %, 4" de diámetro x 0,125"
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Objetivo de cristal único de Si, dopado con P (100) 3" x 4,0 mm, sin pulir-TG-SiPa76D40CN
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Objetivo de cristal único de silicio, tipo N, sin dopar, (100) ori., 3'' de diámetro x 6,0 mm, rectificado fino, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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Objetivo de ZnS, 99,99 %, 4" de diámetro x 1/8" con placa trasera de cobre
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Objetivo de cristal único de Si, tipo N, sin dopar 4"x0.25", sin pulir R:1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
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Objetivo PbS con respaldo de cobre y placa de revestimiento, pureza: 99,99 %
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Monocristal de MgO para evaporación, 5x5x5 mm cortado
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Monocristal de MgF2 para evaporación, unidad de 2,8-6 mm: gramo
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Objetivo LiNiCoMnO2 para cátodo de batería de película delgada
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Objetivo de LiMn2O4 para cátodo de batería de película delgada
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Objetivo LiFePO4 para cátodo de batería de película delgada
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Monocristal de GaAs para evaporación, 5x5x5 mm como corte
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Monocristal de CdWO4 para evaporación, 5x5x5 mm como corte
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Monocristal de CaF2 para evaporación, 5x5x5 mm como corte
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Objetivo GaN, 99,99 % 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
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Objetivo cerámico conductor (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
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Objetivo BiFeO3, 3" de diámetro x 0,125" de espesor Unión a la placa trasera de cobre (Cu) (0,111" de espesor)
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Monocristal de Al2O3 para evaporación, pureza 99,99 %, corte de 5x5x5 mm
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Objetivo Al2O3, pureza: 99,99 %, 6,9"x8,9"x0,25" de espesor, objetivo-Al2O3-172-222-0635CN
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Objetivo Ba0.5Sr0.5TiO3, 99,99 %
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Objetivo Zr, 99,99 %, 8,9" x 6,9" x 0,25", TG-Zr-222-172-0635CN
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Objetivo Cu(1%Ga), Pureza: 99,99% 4" de diámetro x 0,25"
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Objetivo Cd, Pureza: 99,999 % 2" de diámetro x 1/8" con placa trasera de cobre
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Objetivo de acero inoxidable de alta pureza, 2" de diámetro x 0,3 mm
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 pulgadas Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine
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Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater para preparación de muestras SEM
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Recubrimiento por pulverización iónica de magnetrón al vacío para ciencia de los materiales
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Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater con tamaño de cámara de 150 * 120 mm
+86 13174506016
David@tmaxcn.com
