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productos
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Magnetron Sputtering Coater |
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Low vacuum |
Magnetron sputtering |
900M(Single target) |
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Plasma sputtering |
900 amd 800(Single target); SD-2000III(Three targets) |
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Thermal evaporation |
800C and 980(Carbon rope, no target head) |
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Magnetron sputtering + thermal evaporation |
900C(Single target), The other case is carbon rope |
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High vacuum |
Magnetron sputtering |
SD-650MH(DC+ DC, DC + RF, RF+ RF) |
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Thermal evaporation |
SD-100AF(Heat evaporation carbon rod, molybdenum boat, tungsten wire bar) |
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 pulgadas Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine
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Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater para preparación de muestras SEM
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Recubrimiento por pulverización iónica de magnetrón al vacío para ciencia de los materiales
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Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater con tamaño de cámara de 150 * 120 mm
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Horno CSS de dos zonas con soporte giratorio para obleas de hasta 5x5" en máx. 800°C
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Máquina recubridora de evaporación térmica al vacío controlada por temperatura de precisión de laboratorio
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Máquina de revestimiento por pulverización catódica de magnetrón DC de laboratorio con objetivo para revestimiento de metal noble
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3 calentadores de máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de objetivo rotatorio (500C) que incluyen 3 objetivos
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón DC de laboratorio con etapa giratoria y enfriador de agua
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de plasma RF de 2 pulgadas para películas delgadas no conductoras
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Recubridor de pulverización por evaporación térmica pulsante al vacío con bomba de vacío
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Recubridor de pulverización iónica automática portátil al vacío de CC para la preparación de muestras SEM no conductoras
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Recubridor de carbón de evaporación térmica al vacío para ciencia de materiales
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Recubrimiento de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF
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Recubridor de película dos en uno: máquina de recubrimiento por evaporación de carbono y pulverización catódica de plasma
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Horno CSS de dos zonas de laboratorio para procesamiento térmico rápido de hasta 3" de diámetro y 650 ºC.
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Máquina recubridora de evaporación térmica ultrasónica de alto vacío con cuatro fuentes de calefacción (10-6 torr)
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Máquina de sistema de evaporación térmica de 4 fuentes con controlador de temperatura de precisión
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Máquina recubridora de pulverización catódica de plasma combinatoria con tres fuentes de pulverización catódica de magnetrón de 2'' y potencia de RF/CC
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de plasma RF de 5 cabezales para investigación de película delgada MGI
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Máquina recubridora PVD de polvo de laboratorio con etapa de vibración y pulverización catódica de magnetrón de CC
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Horno CSS de laboratorio de dos zonas para procesamiento térmico rápido de obleas de hasta 5" de diámetro a un máximo de 800 °C
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Lab 3 cabezas 1 pulgada RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine con DC Magnetron Sputtering
+86 13174506016
David@tmaxcn.com
